作者：康海峰; 元以中; 孙真荣; 王祖赓非线性光学花菁染料
摘要：采用旋涂法制备了一种五甲川菁染料的超薄膜，利用原子力显微，椭偏仪、UV-Vis吸收光谱、红外光谱、小角X射线衍射等对薄膜的形貌和线性光谱性质进行了研究表征，结果表明染料在薄膜中形成了有序而稳定的J-聚集体，前向简并四波混频（DFWM）技术研究表明由于分子的聚集作用引起三阶非线性极化率的增大（χ^（3）=2．55×10^-12 esu），利用激子耦合模型初步分析和讨论了产生非线性效应增强的内在机制。
注：因版权方要求，不能公开全文，如需全文，请咨询杂志社
