作者：游利兵 周翊 梁勖 余吟山 方晓东 王宇激光技术arf准分子激光光刻双图形
摘要：193nmArF准分子激光光刻技术已广泛应用于90nm以下节点半导体量产。分析了近期发展用于改进准分子激光性能的关键技术：主振一功率再生放大（MOPRA）结构，主振一功率振荡（MOPO）结构，主动光谱带宽稳定技术，先进的气体管理技术。对光刻用准分子激光光源技术发展趋势进行了简要的讨论。
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