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温度对SiO2光子晶体模板中生长InP的影响

作者:常伟; 范广涵; 谭春华; 李述体; 雷勇; 黄...光电子学有机金属化学气相沉积光子晶体人工欧泊温度

摘要:制备了人工欧泊SiO2光子晶体模板并运用有机金属化学气相沉积(MOCVD)技术在SiO2光子晶体模板中生长填充了InP晶体。实验研究了不同成核温度(300℃,350℃,400℃)对于生长填充InP的影响。扫描电镜和反射谱分析结果显示,温度对于InP在SiO2光子晶体模板中的生长有重要影响。随着成核温度的升高,InP在SiO2光子晶体模板中的填充率随之降低。

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量子电子学报

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