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出版地区
飞秒激光直写掩模制作硅表面微柱阵列第261-266页
关键词: 超快光学  热氧化效应  硅  微柱阵列  氢氧化钾  掩模  
基于小波变换的感兴趣区域图像压缩算法第51-54页
关键词: 小波变换  感兴趣区域  掩模  图像压缩  
美科学家使光刻技术实现20纳米工艺芯片新突破第34-34页
关键词: 光刻技术  掩模  纳米工艺  威斯康星大学  摩尔定律  bright  纳米技术  半导体生产  感光性树脂  晶体管数量  
2004年第02期 《半导体信息》
英特尔EUV光刻技术研发获重要突破第30-30页
关键词: 光刻技术  euv  掩模  远紫外线  计算机芯片  试用阶段  半导体制造商  最小尺寸  印刷技术  试验线  
2004年第06期 《半导体信息》
准绝缘体上的硅场效应晶体管第26-26页
关键词: 场效应晶体管  浮体效应  漏区  隔离技术  高温退火  总剂量  电耦合  硅衬底  掩模  科技开发  
2004年第01期 《半导体信息》
2003年中国半导体设备市场总值达11.6亿美元第10-11页
关键词: 半导体设备  市场总值  统计项目  工厂自动化  数据显示  资本性支出  stanley  交易数据  晶圆制造  掩模  
2004年第03期 《半导体信息》
计算用的量子点第26-27页
关键词: 量子点  量子计算机  宝石激光器  发光二极管  锁模  分子束外延生长  光阑  量子态  掩模  激光脉冲  
2004年第01期 《半导体信息》
通用工艺与设备第41-53页
关键词: 通用工艺  电子束光刻  掩模  等离子体蚀刻  等离子体刻蚀  lithography  极端紫外  压铸机  注射成型  溶胶一凝胶  
2005年第12期 《电子科技文摘》
X射线掩模电子束制备图形过程中的数值研究第20-23页
关键词: 掩模  电子束书写  温度分布  图形制备  有限元分析  
2005年第02期 《微细加工技术》
基于掩模的畸变棋盘格角点检测与排序第14-19页
关键词: 角点检测  掩模  畸变棋盘格  递归排序  
新型科利登GlobalScan-Ⅰ系统定位复杂设计和成品率问题第31-31页
关键词: 成品率  掩模  测试解决方案  系统定位  集成电路  量产时间  物理分析  供应商  问题  产品  
50nm X射线光刻掩模制备关键技术第96-98页
关键词: x射线光刻  掩模  金刚石  吸收体  键合  
2004年第02期 《核技术》
基于随机森林算法构建Hyperion影像云和云阴影掩模第10-15页
关键词: hyperion影像  随机森林算法  决策树分类  光谱曲线  云及云阴影  掩模  
2018年第03期 《林业调查规划》
电子束曝光邻近效应修正研究第40-43页
关键词: 掩模  电子束曝光  邻近效应  pec  
2018年第10期 《电子与封装》
基于形态学重构的侧扫声呐图像目标分割方法第18-22页
关键词: 侧扫声呐  顶帽重构  边缘检测  掩模  
EVG6200 Infinity掩模对准曝光机第200-200页
关键词: infinity  曝光机  掩模  化合物半导体  mems  芯片级封装  技术设计  功率器件  近距离  奥地利  阻光层  显微镜  凸点  晶圆  
2005年第04期 《微纳电子技术》
任意三维表面微型光器件的灰度光刻技术第38-43页
关键词: 灰度  光刻  掩模  
2004年第10期 《微纳电子技术》
新型URE-2000S型紫外单、双面深度光刻机研制第388-391页
关键词: 双面光刻  底面对准  深度曝光  掩模  样片  
2005年第08期 《微纳电子技术》
LSI逻辑为入门级平台ASIC解决方案免除掩模费用第120-120页
关键词: 解决方案  asic  lsi  掩模  平台  入门级  费用  逻辑  消费电子产品  slice  fpga  成本效益  c系列  大批量  设计者  
2005年第07期 《今日电子》
科利登GlobalScan-Ⅰ系统定位复杂设计和成品率问题第87-87页
关键词: 成品率  步进扫描  图像叠加  掩模  系统定位  集成电路  量产时间  问题  产品  加工成本  
2004年第12期 《今日电子》