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飞秒激光直写
掩模
制作硅表面微柱阵列
第261-266页
关键词: 超快光学 热氧化效应 硅 微柱阵列 氢氧化钾 掩模
2019年第18期
《激光与光电子学进展》
基于小波变换的感兴趣区域图像压缩算法
第51-54页
关键词: 小波变换 感兴趣区域 掩模 图像压缩
2010年第03期
《苏州科技大学学报·自然科学版》
美科学家使光刻技术实现20纳米工艺芯片新突破
第34-34页
关键词: 光刻技术 掩模 纳米工艺 威斯康星大学 摩尔定律 bright 纳米技术 半导体生产 感光性树脂 晶体管数量
2004年第02期
《半导体信息》
英特尔EUV光刻技术研发获重要突破
第30-30页
关键词: 光刻技术 euv 掩模 远紫外线 计算机芯片 试用阶段 半导体制造商 最小尺寸 印刷技术 试验线
2004年第06期
《半导体信息》
准绝缘体上的硅场效应晶体管
第26-26页
关键词: 场效应晶体管 浮体效应 漏区 隔离技术 高温退火 总剂量 电耦合 硅衬底 掩模 科技开发
2004年第01期
《半导体信息》
2003年中国半导体设备市场总值达11.6亿美元
第10-11页
关键词: 半导体设备 市场总值 统计项目 工厂自动化 数据显示 资本性支出 stanley 交易数据 晶圆制造 掩模
2004年第03期
《半导体信息》
计算用的量子点
第26-27页
关键词: 量子点 量子计算机 宝石激光器 发光二极管 锁模 分子束外延生长 光阑 量子态 掩模 激光脉冲
2004年第01期
《半导体信息》
通用工艺与设备
第41-53页
关键词: 通用工艺 电子束光刻 掩模 等离子体蚀刻 等离子体刻蚀 lithography 极端紫外 压铸机 注射成型 溶胶一凝胶
2005年第12期
《电子科技文摘》
X射线
掩模
电子束制备图形过程中的数值研究
第20-23页
关键词: 掩模 电子束书写 温度分布 图形制备 有限元分析
2005年第02期
《微细加工技术》
基于
掩模
的畸变棋盘格角点检测与排序
第14-19页
关键词: 角点检测 掩模 畸变棋盘格 递归排序
2019年第03期
《青岛大学学报·工程技术版》
新型科利登GlobalScan-Ⅰ系统定位复杂设计和成品率问题
第31-31页
关键词: 成品率 掩模 测试解决方案 系统定位 集成电路 量产时间 物理分析 供应商 问题 产品
2004年第12期
《工业和信息化教育》
50nm X射线光刻
掩模
制备关键技术
第96-98页
关键词: x射线光刻 掩模 金刚石 吸收体 键合
2004年第02期
《核技术》
基于随机森林算法构建Hyperion影像云和云阴影
掩模
第10-15页
关键词: hyperion影像 随机森林算法 决策树分类 光谱曲线 云及云阴影 掩模
2018年第03期
《林业调查规划》
电子束曝光邻近效应修正研究
第40-43页
关键词: 掩模 电子束曝光 邻近效应 pec
2018年第10期
《电子与封装》
基于形态学重构的侧扫声呐图像目标分割方法
第18-22页
关键词: 侧扫声呐 顶帽重构 边缘检测 掩模
2019年第04期
《国外电子测量技术》
EVG6200 Infinity
掩模
对准曝光机
第200-200页
关键词: infinity 曝光机 掩模 化合物半导体 mems 芯片级封装 技术设计 功率器件 近距离 奥地利 阻光层 显微镜 凸点 晶圆
2005年第04期
《微纳电子技术》
任意三维表面微型光器件的灰度光刻技术
第38-43页
关键词: 灰度 光刻 掩模
2004年第10期
《微纳电子技术》
新型URE-2000S型紫外单、双面深度光刻机研制
第388-391页
关键词: 双面光刻 底面对准 深度曝光 掩模 样片
2005年第08期
《微纳电子技术》
LSI逻辑为入门级平台ASIC解决方案免除
掩模
费用
第120-120页
关键词: 解决方案 asic lsi 掩模 平台 入门级 费用 逻辑 消费电子产品 slice fpga 成本效益 c系列 大批量 设计者
2005年第07期
《今日电子》
科利登GlobalScan-Ⅰ系统定位复杂设计和成品率问题
第87-87页
关键词: 成品率 步进扫描 图像叠加 掩模 系统定位 集成电路 量产时间 问题 产品 加工成本
2004年第12期
《今日电子》
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