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东芝寻找冷却技术来降低器件功耗
第25-25页
关键词: 浸没式光刻 批量生产 冷却技术 套刻 寄生电阻 掩膜 电源电压 金属栅 介质薄膜 工艺集成
2005年第04期
《半导体信息》
多层复杂结构准LIGA一体化加工工艺的研究
第75-78页
关键词: 准liga 套刻 种子层 表面活化
2005年第01期
《微细加工技术》
标记非对称变形导致的对准误差修正方法及其在
套刻
测量中的应用
第177-184页
关键词: 测量 光刻 套刻 对准 对准标记 非对称变形
2019年第07期
《中国激光》
基于自相干叠栅条纹的光刻机对准技术
第177-184页
关键词: 测量 光刻 套刻 对准 叠栅条纹
2017年第12期
《中国激光》
电子束曝光数据格式的改进设计与实现
第6-10页
关键词: 电子束曝光 图形发生器 图形文件格式 套刻
2006年第06期
《微细加工技术》
电子束曝光控制软件系统设计与实现
第1-4页
关键词: 电子束曝光 控制软件 版图设计 拼接 套刻
2007年第06期
《微细加工技术》
ArF浸没式光刻在55nm逻辑器件制造中的优势
第8-15页
关键词: 浸没式光刻 55纳米逻辑器件 成像 套刻 关键尺寸一致性
2007年第11期
《电子工业专用设备》
TFT制造工艺简化
第659-659页
关键词: tft器件 工艺简化 三星电子公司 生产能力 生产节拍 套刻 原材料
2006年第06期
《液晶与显示》
22nm技术节点的成品率目标
第26-31页
关键词: 技术节点 成品率 半导体行业 量测 开发 套刻
2008年第08期
《集成电路应用》
双重图形光刻设备
第49-49页
关键词: 图形技术 光刻设备 定位测量系统 生产效率 光刻工艺 载物台 nxt 套刻
2009年第01期
《集成电路应用》
新型CD-SEM
套刻
法改进双沟道图形化CDU
第31-33页
关键词: 双沟道 cdu 图形化 套刻 控制策略 均匀性 内置
2008年第04期
《集成电路应用》
先进封装投影光刻机
第63-65页
关键词: 先进封装 投影光刻机 套刻
2009年第12期
《中国集成电路》
投影光刻机在先进封装中的应用
第47-50页
关键词: 先进封装 投影光刻机 套刻
2010年第03期
《电子工业专用设备》
200mm×200mm OLED步进投影曝光机
第12-16页
关键词: 曝光机
2012年第03期
《电子工业专用设备》
基于二维周期结构衍射的
套刻
测量技术研究
第88-93页
关键词: 测量 套刻 衍射 光栅 严格耦合波分析
2014年第02期
《激光与光电子学进展》
略论居家养老服务机构的优惠扶持政策
第32-32页
关键词: 优惠扶持政策 养老服务机构 社会化养老 战略布局 财政压力 医保体系 政策文本 问题导向 全国老龄办 套刻
2015年第15期
《中国民政》
一种激光直写机特殊样品
套刻
的样品台
第129-131页
关键词: 激光直写 特殊样品台 薄片 小片 套刻
2015年第04期
《高校实验室工作研究》
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