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期刊收录
出版地区
东芝寻找冷却技术来降低器件功耗第25-25页
关键词: 浸没式光刻  批量生产  冷却技术  套刻  寄生电阻  掩膜  电源电压  金属栅  介质薄膜  工艺集成  
2005年第04期 《半导体信息》
多层复杂结构准LIGA一体化加工工艺的研究第75-78页
关键词: 准liga  套刻  种子层  表面活化  
2005年第01期 《微细加工技术》
标记非对称变形导致的对准误差修正方法及其在套刻测量中的应用第177-184页
关键词: 测量  光刻  套刻  对准  对准标记  非对称变形  
2019年第07期 《中国激光》
基于自相干叠栅条纹的光刻机对准技术第177-184页
关键词: 测量  光刻  套刻  对准  叠栅条纹  
2017年第12期 《中国激光》
电子束曝光数据格式的改进设计与实现第6-10页
关键词: 电子束曝光  图形发生器  图形文件格式  套刻  
2006年第06期 《微细加工技术》
电子束曝光控制软件系统设计与实现第1-4页
关键词: 电子束曝光  控制软件  版图设计  拼接  套刻  
2007年第06期 《微细加工技术》
ArF浸没式光刻在55nm逻辑器件制造中的优势第8-15页
关键词: 浸没式光刻  55纳米逻辑器件  成像  套刻  关键尺寸一致性  
TFT制造工艺简化第659-659页
关键词: tft器件  工艺简化  三星电子公司  生产能力  生产节拍  套刻  原材料  
2006年第06期 《液晶与显示》
22nm技术节点的成品率目标第26-31页
关键词: 技术节点  成品率  半导体行业  量测  开发  套刻  
2008年第08期 《集成电路应用》
双重图形光刻设备第49-49页
关键词: 图形技术  光刻设备  定位测量系统  生产效率  光刻工艺  载物台  nxt  套刻  
2009年第01期 《集成电路应用》
新型CD-SEM套刻法改进双沟道图形化CDU第31-33页
关键词: 双沟道  cdu  图形化  套刻  控制策略  均匀性  内置  
2008年第04期 《集成电路应用》
先进封装投影光刻机第63-65页
关键词: 先进封装  投影光刻机  套刻  
2009年第12期 《中国集成电路》
投影光刻机在先进封装中的应用第47-50页
关键词: 先进封装  投影光刻机  套刻  
200mm×200mm OLED步进投影曝光机第12-16页
关键词: 曝光机  
基于二维周期结构衍射的套刻测量技术研究第88-93页
关键词: 测量  套刻  衍射  光栅  严格耦合波分析  
略论居家养老服务机构的优惠扶持政策第32-32页
关键词: 优惠扶持政策  养老服务机构  社会化养老  战略布局  财政压力  医保体系  政策文本  问题导向  全国老龄办  套刻  
2015年第15期 《中国民政》
一种激光直写机特殊样品套刻的样品台第129-131页
关键词: 激光直写  特殊样品台  薄片  小片  套刻