作者：肖啸后烘驻波效应抗蚀剂光敏混合物显影轮廓
摘要：研究了不同后烘情况下的PAC浓度分布和抗蚀剂的显影轮廓，结果表明适当的后烘可明显减小驻波缺陷，提高光刻质量，而过量的后烘将会导致抗蚀剂图形结构劣化。
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