作者：肖啸; 刘世杰光刻分辨率抗蚀剂掩模曝光
摘要：随着半导体工业和纳米技术的飞速发展,对光刻技术提出了越来越高的要求.光学光刻技术经过几十年的发展,在方方面面都取得了巨大进步,同时在现有基础上继续提高也存在着难以克服的困难;而下一代光刻技术(NGL)尽管取得了一些突破,但由于费用、生产率、实现性等问题,投入大规模使用尚待时日.在未来几年内,光学光刻的主流地位仍然不可动摇.本文分析了当前一些光刻技术的发展状况,并对光刻技术的发展趋势进行了展望.
注：因版权方要求，不能公开全文，如需全文，请咨询杂志社
