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工艺参数对Ni-SiC纳米复合镀层沉积速率的影响

作者:王琳; 孙本良; 王兴隆; 张乐纳米复合镀工艺参数沉积速率

摘要:用电沉积的方法在铜表面制备了Ni-SiC纳米复合镀层,研究了不同的工艺参数,包括阴极电流密度、镀液中纳米SiC悬浮量、镀液pH值、镀液温度和搅拌速度对复合镀层的沉积速率的影响。结果表明:在实验电流范围内,镀层的沉积速率随着阴极电流密度的增大呈线性上升的趋势;随着镀液中纳米颗粒悬浮量、镀液pH值及搅拌速度的增大而增大,当达到一定值时,又开始下降;随着镀液温度升高,逐步降低。最佳参数为:不烧焦镀层前提下的最大电流,纳米颗粒体积质量为5g/L,pH值3.5—4.0,温度30℃,搅拌速度为中高速。

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辽宁科技大学学报

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