作者：冀丽爽; 孙婷; 郭星; 赵光光谱测试缺陷结构
摘要：采用提拉法生长了掺Nd~（3＋）浓度为0.2 mol（N1）%,0.5 mol（N2）%,0.8 mol（N3）%的Nd：LiNbO3晶体。测试了Nd：LiNbO3晶体的红外吸收光谱、紫外-可见吸收光谱并深入研究了其内部缺陷结构。通过对光谱的测试与分析得出：Nd~（3＋）在低浓度掺杂过程中优先取代反位铌NbLi~（4＋）位及Li~＋位,随着掺杂浓度的增加主要取代反位铌NbLi~（4＋）位。
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