作者：郭铁明; 马勤; 周琦二硅化钼晶界侵蚀方法
摘要：对两种MoSi2材料试样进行了侵蚀试验.利用XJG-04型金相显微镜和扫描电子显微镜,研究了MoSi2侵蚀后的显微组织,并对其侵蚀结果进行了探讨.研究发现,MoSi2基材料具有晶间腐蚀敏感性,采用HF+HNO3+H2O作为其晶界侵蚀剂是可行的.
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