基于专利存续期的中国专利质量演变研究

作者：李明; 陈向东; 宋爽发明专利授权率存续期专利质量演变生存分析

摘要：随着中国创新活动日新月异的发展，专利质量的变化趋势越来越受到研究人员的关注。使用中国发明专利每年发明专利的授权率和存续期表征专利质量，并且对发明专利的存续期使用Cox-PH模型进行回归，并以此分析了中国专利质量的演变趋势。研究结果显示，中国发明专利在授权率和存续期方面与国外存在一定差距，但与其他学者不同的是，无论是整体还是细分行业领域，中国发明专利的授权率在1985-1992年期间持续下降，之后在1993--2000年段显著上升，2001—2013年期间再次显著上升后趋于稳定；存续期则在1985-1992年期间呈现缩短趋势，但缩短力度在减小，之后在1993—2011年均呈现逐年延长趋势。尤其中国的电子工程领域在存续期上进步速度显著快于国外，以上均可证明中国专利质量在逐年提高。

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