作者：杨华; 杨俊品; 荣廷昭; 谭君; 邱正高qtl分子标记定位玉米纹枯病遗传连锁图谱纹枯病抗性染色体自交系标记位点定位分析抗病指数表型变异连锁关系植株高度基因分离ssr基因组穗位高群体控制株系感病
摘要：用抗玉米纹枯病自交系CML270和感病自交系478的(CML270×478)×CML270 BC1:2群体共322个株系为作图和定位群体, 构建了125个SSR标记位点的遗传连锁图谱, 覆盖玉米基因组1939.0 cM, 平均图距15.5 cM.采用复合区间定位分析, 检测到玉米纹枯病抗病指数主效QTL位点3个, 2个位于第1染色体, 1个位于第7染色体上, 它们分别能解释表型变异的18%～20%; 控制株高的QTL位点7个, 分别位于第3～6染色体上, 控制"穗位高"的QTL位点5个, 分别位于第3, 4, 6染色体上.自交系CML270玉米纹枯病抗性主效QTL真实存在, 抗性与植株高度遗传上不存在连锁关系, 为玉米纹枯病分子标记辅助选择(MAS)和抗性基因分离与克隆提供了技术和材料支撑.
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