作者：阿不都热苏力光子晶体蚀刻技术湿蚀刻干蚀刻光阻材料
摘要：随着光电子技术和精密加工技术的快速发展，光电子元件的尺寸也越来越小，在制作这些元件的技术中，电子束刻蚀作为制备光子晶体最为稳定可靠的方法，其发展被人们所关注．为此介绍了用电子束刻蚀工艺制备二维光子晶体的方法．
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