作者：董坚 张伟 张非煜 金文静 殷戬 李国庆全口义齿中性区piezography图像测量
摘要：目的：初步探讨全口义齿上颌后牙区堤颊舌向位置对下颌Piezography中性区印模颊舌向位置的影响。方法：在临床门诊选择无牙颌患者5例,设定2种全口义齿上颌后牙区堤颊侧缘位置：1）与上颌基托颊侧缘在咬合平面投影线重合（B-0）;2）位于上颌基托颊侧缘在咬合平面投影线偏舌侧3mm（B-3）。采用Piezography发音法制取下颌中性区印模,通过数字图像处理,测量印模面磨牙区（M）,磨牙与双尖牙交界区（MP）,双尖牙区（P）及前牙正中部（AC）的唇颊舌向位置变化,并使用配对T检验进行统计学分析（显著性水平α=0.05）。结果：在B-3条件下,MP和P的颊侧缘及颊舌中点的位置较B-0条件下的更偏向舌侧（P〈0.05）,且更接近牙槽嵴顶,M和AC各部位的位置虽与B-0条件下的无显著差异,但存在偏向舌侧的倾向。结论：全口义齿上颌后牙区堤偏向舌侧设定可引起下颌Piezography中性区印模颊侧缘同向偏移,有利于下颌人工牙排列更接近于牙槽嵴顶。
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