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论微电子工艺中的清洗技术现状及展望

作者:贾松电子工艺清洗技术减少损伤广阔前景

摘要:在当前电子工艺的发展尤其是微电子方向的发展使得微电子工艺中的清洗技术也变得越来越受重视起来。微电子工艺受各方面条件影响因而会在其中产生比较多的污染物,并且这些污染物很可能会对电子产品的功能质量产生极大影响,所以有效的采用合理的清洗技术才能更好的保障相关元件质量,广阔的市场需求也说明了微电子工艺中的清洗技术在未来会有一个良好的发展。

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科技风

《科技风》(CN:13-1322/N)是一本有较高学术价值的大型旬刊,自创刊以来,选题新奇而不失报道广度,服务大众而不失理论高度。颇受业界和广大读者的关注和好评。 《科技风》杂志以“把脉科技创新、引领发展风尚”为办刊宗旨,以第一线科技、教育工作者为读者对象,追踪科研、教育工作动态,反映科教工作者的言论和呼声,关注基层科教工作者在其理论领域内的探索、创新实践活动和学术研究成果,致力于发展研究改革开放,经济发展过程中出现的各种科学技术、经济问题以及教育教学等方面具有较高水平的理论文章,是广大科教工作者阐释观点...

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