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基于YMS实现AOI Defect Map监控的设计

作者:张文富; 王旭; 蒋迁; 薛婕; 齐勤瑞; 张然良率管理系统自动光学检测自动监控

摘要:在现代液晶产品生产线上,基于YMS强大的运算能力、丰富的结果显示功能,通过对一定时间内单个样本AOI检测结果的重新计算,实现对Defect分布规律的监控。为了能更好的起到监控作用,丰富监控结果,终端显示从以下四个方面进行计算和输出:(1)按照坐标输出缺陷水平;(2)按缺陷大小和类型输出缺陷水平;(3)按来料Lot输出缺陷水平;(4)按基板输出缺陷水平。以上四个方面的数据监控能够及时发现异常来源,从而对产线的正常生产提供有力保障。此外,增加自动刷取和推送以及异常提示的设计,提高了监控的便利性。

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科技创新与应用

《科技创新与应用》(CN:23-1581/G3)是一本有较高学术价值的大型旬刊,自创刊以来,选题新奇而不失报道广度,服务大众而不失理论高度。颇受业界和广大读者的关注和好评。 《科技创新与应用》具有一定学术和应用价值的学术文献和反映各学科、各领域的新成果、新工艺、新产品等方面的论述文章,为科技工作者搭建学术交流平台。

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