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电解铜箔花斑缺陷问题的研究

作者:王建智; 樊斌锋; 李应恩电解铜箔花斑流量溶液温度

摘要:花斑缺陷在一定程度上制约着电解铜箔的品质,结合笔者所在公司现有生产条件,从微观形貌、流量因素、溶液温度及极化因素等方面简要分析了花斑产生的原因,不断完善相关技术积累,降低生产异常,该研究具有极大的现实生产意义。

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科技创新导报

《科技创新导报》(旬刊)创刊于2004年,由中国航天科技集团公司主管,中国宇航出版有限责任公司;北京合作创新国际科技服务中心主办,CN刊号为:11-5640/N,自创刊以来,颇受业界和广大读者的关注和好评。

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