作者：周巧玲; 舒云峰bst薄膜磁控溅射tem
摘要：基于Ba_xS_（rl-x）TiO_2（BST）在微波调制器件上的应用,采用射频磁控溅射在Si衬底上制备了BST铁电薄膜,利用透射电子显微镜（TEM）对薄膜的内部结构进行了分析,得到BST薄膜的生长方式由最初的随机取向生长转变为最后的（111）面择优取向生长。
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《科技创新导报》（旬刊）创刊于2004年，由中国航天科技集团公司主管，中国宇航出版有限责任公司;北京合作创新国际科技服务中心主办，CN刊号为：11-5640/N，自创刊以来，颇受业界和广大读者的关注和好评。
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