作者：李雪冬; 刘洪; 吴家刚; 刘刚; 肖定全; 朱...多层薄膜铁电性电滞回线xrd
摘要：以LaNiO2做缓冲层，用射频磁控溅射法在Si02／Si（100）衬底上制备出[0．9Pb（Sc0.5；Ta0.5）O3-0．1PbTiO3／0．55Pb（Sc0.5Ta0.5）O3-0．45PbTiO3]4铁电多层薄膜。采用两步法在峰值温度800℃对薄膜进行退火。通过x射线衍射分析了薄膜的物相结构，通过电滞回线和漏电流曲线对薄膜的铁电性能进行了测量。研究发现，薄膜展现出高度（100）取向的钙钛矿姑构和增强的铁电性，其剩余极化2Pr=26．2μc／cm2，矫顽场2Ee=53．9kV／cm，100kV／c面下漏电流密度为1．87×10^-4A／cm2。分析了铁电性增强和漏电流增大的可能原因。
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