作者：王延风; 卢志山; 宋文荣; 田兴志; 何惠阳cadcae磁悬浮光刻定位精度有限元法电磁场分析模态分析测试
摘要：采用CAD/CAE技术手段设计了一种新型磁悬浮超精密工作台,它是针对微电子行业IC芯片制造设备如光刻机而研制的快速步进、精密定位机构.利用磁悬浮技术将工作台悬浮在X、Y导轨上,消除了导轨的摩擦和磨损;直线电机无接触驱动实现了工件台的精密定位.用UG软件,构造了磁悬浮工作台的三维实体模型,并进行了机构运动分析仿真;用ANSYS软件进行了磁悬浮系统的电磁场分析,可得到磁通量密度,磁场强度,磁力,以及能量损耗和漏磁量;对磁悬浮工作台进行了有限元力学分析和结论优化,并结合实验测试,可使工作台在X、Y 方向能量满足0.02μm的定位精度要求以及达到0.1μm调焦精度和3.0μrad调平精度的要求.
注：因版权方要求，不能公开全文，如需全文，请咨询杂志社
