作者：杨运泉 李远喜 童刚生 李国龙离子型表面活性剂hlb值cmc结构片断法疏水值logp基团贡献法
摘要：运用结构片断法计算离子型表面活性剂的疏水值logP，并将疏水值概念引入Davies基团贡献法以代替该模型中亲油基的基团数，从而建立了计算离子型表面活性剂HLB值的新模型为：HLB=7＋∑亲水基基团数-∑疏水基logP。通过与文献列举的17个不同系列离子型表面活性剂的HLB值对照表明，该新模型的计算值与文献值的平均相对偏差为1．68％。采用非线性方法拟合了烷基硫酸钠，烷基磺酸钠和烷基三甲基溴化铵3类典型离子型表面活性剂的CMC和HLB的关系，并得到了其关联方程，拟合结果表明，由新模型得到的关联方程其复相关系数R^2〉0．988。
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