作者：刘学平; 朱珂显影工艺显影喷嘴均匀性低冲击
摘要：论述了显影工艺的发展及国内外对显影工艺的研究，指出了其存在的缺陷及技术发展难点，并对显影工艺中的重要部件显影喷嘴的发展过程进行了论述，介绍了各种显影喷嘴的工艺过程及结构功能，基于工艺要求分析了它们各自的优缺点以及可能产生的显影缺陷。从实际生产出发，针对显影工艺技术发展的客观趋势，指出了显影喷嘴的改进目标及未来发展方向。
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《机械工程与自动化》（CN：14-1319/TH）是一本有较高学术价值的大型双月刊，自创刊以来，选题新奇而不失报道广度，服务大众而不失理论高度。颇受业界和广大读者的关注和好评。 《机械工程与自动化》主要报道计算机应用、机械设计及加工、机械传动、机电一体化、材料与工艺、仪器仪表、自动化技术及技术管理等机电工程方面各学科的最新科研成果、应用技术和发展动态。主要读者为大专院校的师生、科研院所的研究人员和广大工厂企业的科技人员。
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