低压力铜化学机械抛光集散控制系统

作者：门延武 张辉 周凯 叶佩青化学机械抛光运动控制网络化递阶系统分布式执行可编程自动控制器

摘要：针对化学机械抛光设备提出了PC＋NC＋实时网络分布式可编程自动控制器的控制方案,并介绍了该系统的总体结构和主控制系统、网络化协调控制子系统、分布式执行控制子系统等核心环节的软硬件实现技术。单区域抛光头气压控制结果表明,该系统具有较高的稳定性和可靠性,能很好地满足化学机械抛光项目的总体要求。

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