薄膜结构局部结构共溅射磁性共沉积法x射线吸收沉积功率功率控制
摘要：A．Munaz-Noval等人采用耙材共沉积法，用Tb33Fe67和Fe72Ga28两种耙材共沉积TbxFe73Ga27-x（7≤x≤11）薄膜。TbxFe72Ga28-x的沉积功率为90w，而Tb33Fe67的沉积功率控制在50～90w。采用X射线吸收微细结构谱线测定薄膜结构。
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《金属功能材料》（CN：11-3521/TG）是一本有较高学术价值的大型双月刊，自创刊以来，选题新奇而不失报道广度，服务大众而不失理论高度。颇受业界和广大读者的关注和好评。
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