作者：晓敏合金薄膜磁性饱和磁化磁化材料垂直记录记录密度制备方法富士通公司新型材料超晶格膜
摘要：Fe-Co-Pd系高饱和磁化膜当前在磁极上使用的Fe70O3。合金，认为是当前具有最大饱和磁化的材料，仅仅依靠变更材料来提高记录磁场是很难的。因为可以改成垂直记录和采用比较“易写”媒体，所以能够维持记录密度的增加率。即使改为垂直记录也仍然需要提高记录磁场，所以开发高饱和磁化材料始终是维持记录密度增加率的关键。因此，日本的富士通公司研究了写人磁头用Fe—Co-Pd系高饱和磁化薄膜这一新型材料的磁特性。作为写人磁头磁极的制备方法，常用溅射法和电镀法。此次，研究中则运用溅射法制备了二种合金薄膜，一是在Fe70Co30中添加Pd的Fe70Co30（：Pd）合金膜，另一个是数nm厚的Fe70Co30，与Pd层交互层叠的[Fe70Co30／Pd]超晶格膜。
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