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清华成功研发光刻机双工件台系统样机

作者:Mary光刻机系统样机浸没式光刻超精密科技重大专项朱煜自主知识产权机械工程系干式图像分辨率

摘要:清华大学国家科技重大专项"光刻机双工件台系统样机研发"通过验收,使我国成为少数能研制光刻机双工件台这一超精密机械与测控技术领域尖端系统的国家之一。项目由清华大学机械工程系朱煜教授担任负责人,以研制光刻机双工件台系统样机为目标,力争为研发65~28nm双工件台干式及浸没式光刻机提供具有自主知识产权的产品级技术。

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