作者：张龙飞; 王星睿; 邓晓; 程鑫彬计量学多层膜光栅成像对比度表面特性粗糙度刻蚀均匀性tem
摘要：基于Si／SiO2材料对制备出名义节距为50nm的多层膜光栅，重点分析了多层膜光栅研磨抛光过程中的亚表面损伤和湿法刻蚀均匀性问题。并利用原子力显微镜（AFM）和透射电子显微镜（TEM）对多层膜的截面粗糙度和刻蚀光栅结果进行了测量和分析。测量结果显示：多层膜光栅制备过程中的哉面粗糙度降低乖¨刻蚀均匀性的提高，有助于TEM测量获得均一的高成像对比度多层膜光栅图像。
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