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计算机光学元件的制作及新应用

作者:邹凯; 杜诗研; 李慎计算机光学元件灰度掩摸刻蚀法激光直写光学元件计算机应用制作掩模技术激光雷达

摘要:论述计算机光学元件制作的方法,着重介绍了灰度掩模技术,反应离子束刻蚀法和激光直写技术,并且说明了其在空间聚焦器上和激光雷达上的新应用.

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激光与光电子学进展

《激光与光电子学进展》(CN:31-1690/TN)是一本有较高学术价值的大型月刊,自创刊以来,选题新奇而不失报道广度,服务大众而不失理论高度。颇受业界和广大读者的关注和好评。 《激光与光电子学进展》旨在关注科技发展热点,报道高新技术前沿,追踪科技研发动态,介绍科学探索历程;展示最新科技产品,汇萃时尚科技讯息。

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