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两项颇有希望的纳米光刻技术

作者:罗山光刻技术晶体管芯片摩尔定律纳米性能延长快走增加密度

摘要:摩尔定律说,晶体管的密度每18个月就会增加一倍。这种说法已快走到尽头。但是最近两项新的纳米光刻技术的发展,可使芯片的性能增长曲线至少再延长10年。

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激光与光电子学进展

《激光与光电子学进展》(CN:31-1690/TN)是一本有较高学术价值的大型月刊,自创刊以来,选题新奇而不失报道广度,服务大众而不失理论高度。颇受业界和广大读者的关注和好评。 《激光与光电子学进展》旨在关注科技发展热点,报道高新技术前沿,追踪科技研发动态,介绍科学探索历程;展示最新科技产品,汇萃时尚科技讯息。

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