熔融石英玻璃衬底的平面研磨加工实验研究

作者：阎秋生; 李基松; 潘继生熔融石英玻璃游离磨料研磨材料去除率表面粗糙度

摘要：熔融石英玻璃衬底的研磨加工是其超光滑抛光加工的基础工序。采用游离磨料对熔融石英玻璃进行单面粗研和精研加工,研究磨料质量分数、研磨盘转速、研磨液流量和研磨时间对石英玻璃表面质量和材料去除率的影响。结果表明:粗研过程中,随着磨料质量分数、研磨盘转速、研磨液流量的增大,工件材料去除率先增大后减小;随着加工时间的延长,表面粗糙度Ra逐渐达到稳定水平。在磨料质量分数4%、研磨液流量20mL/min、研磨盘转速60r/min、加工30min时,熔融石英玻璃衬底的表面粗糙度Ra达0.11μm。在熔融石英玻璃衬底的精研过程中,选用平均粒径3μm的CeO2加工50min后的表面粗糙度Ra最低,为4.11nm。

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