磁流变微结构动压平面抛光试验研究

作者：董敏; 路家斌; 潘继生; 阎秋生微结构流体动压磁流变效应材料去除率表面粗糙度

摘要：为提高集群磁流变平面抛光效率,在抛光盘表面增加微结构,以增强加工过程中的流体动压作用。使用平面抛光盘和表面加工有孔洞、V形槽、U形槽、矩形槽等不同微结构的抛光盘进行抛光试验及抛光压力特性试验,研究了加工间隙和工件转速对加工效果的影响。结果表明：抛光盘表面微结构对工件材料去除率影响较大,不同微结构盘材料去除率从大到小顺序为V形盘〉U形盘〉平面盘〉孔洞盘〉矩形盘,其中V形盘的材料去除率比平面盘高25%以上;所有抛光盘均能获得纳米级（Ra在8nm以内）表面。当加工间隙为0.9~1.0mm、工件转速为550r/min时,加工效果较好。

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