纳米金刚石膜真空窗口的制备

作者：高攀 马志斌 吴超 王传新 付秋明 汪建华金刚石膜真空窗口微波等离子体化学气相沉积漏气率

摘要：使用自制的微波等离子体化学气相沉积装置,以乙醇为碳源在（100）硅表面制备了金刚石膜；然后用浓硝酸和氢氟酸的混合溶液腐蚀硅,制备出金刚石膜窗口。使用场发射扫描电镜（SEM）、X 射线衍射、拉曼光谱（Raman）、原子力显微镜（AFM）表征和分析金刚石膜,并以自制的漏气率测量系统测量金刚石膜窗口的漏气率。结果表明：金刚石膜的厚度为15μm,平均粗糙度值 Ra 为39.5 nm,晶粒的尺寸大小为30 nm,漏气率为8.8×10，

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