作者：陈赛华 戴玉堂 肖翔 丁莉云激光技术深紫外激光gan薄膜激光抛光微平面表面粗糙度
摘要：为了研究157nm深紫外激光的激光抛光加工特性，采用小光斑对GaN半导体薄膜进行了微平面扫描刻蚀。通过探讨激光工艺参量与激光抛光质量的影响关系，得到了最佳的工艺参量范围。结果表明，随着激光抛光扫描速率的增加，材料加工表面粗糙度值R2逐渐减小，其中扫描速率在0．014mm／s-0．015mm／s处，激光抛光质量最高；而激光抛光扫描间距的减小，或者脉冲频率的增加，都将导致被加工表面粗糙度增大；当脉冲频率取8Hz时，抛光效果较好，表面粗糙度值Ra≈20nm。
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