作者：李明骏新工艺技术fpga功耗器件厂商性能极限创新工艺金属栅极
摘要：在28nm节点下，传统技术在器件功耗改善方面已经达到性能极限，两家领先FPGAF商都选择了高K金属栅极创新工艺，但在具体产品线应用策略上却各有不同。
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《集成电路应用》（CN：31-1325/TN）是一本有较高学术价值的大型月刊，自创刊以来，选题新奇而不失报道广度，服务大众而不失理论高度。颇受业界和广大读者的关注和好评。
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