作者：Glenn; Westwood; Chi-Ming; Jason; Chan...兼容能力光刻胶离子注入金属去除剂全湿法高活性
摘要：本文介绍了一种全湿法，高活性的光刻胶去除溶剂，可以去除注入硬化的光刻胶，并具备对金属的兼容能力。
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《集成电路应用》（CN：31-1325/TN）是一本有较高学术价值的大型月刊，自创刊以来，选题新奇而不失报道广度，服务大众而不失理论高度。颇受业界和广大读者的关注和好评。
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