图形技术光刻设备定位测量系统生产效率光刻工艺载物台nxt套刻
摘要:Twinscan NXT平台在套刻精准和生产效率上有了重要的改进,适合更为先进的光刻工艺,包括双重图形技术。它包含了一个新的平坦的晶圆载物台设计和一个比上几代产品更轻的晶圆载物台,生产效率实现超过30%的提升。另外,新的定位测量系统将套刻精准提高50%。
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《集成电路应用》(CN:31-1325/TN)是一本有较高学术价值的大型月刊,自创刊以来,选题新奇而不失报道广度,服务大众而不失理论高度。颇受业界和广大读者的关注和好评。
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