作者：Dilip; Patel; Kye-Weon; Kim; Doron; Ar...技术节点成品率半导体行业量测开发套刻
摘要：半导体行业正在开发必要的缺陷量测和薄膜量测解决方案,但22nm技术节点的监测还需开发新的成像套刻目标结构。
注：因版权方要求，不能公开全文，如需全文，请咨询杂志社
《集成电路应用》（CN：31-1325/TN）是一本有较高学术价值的大型月刊，自创刊以来，选题新奇而不失报道广度，服务大众而不失理论高度。颇受业界和广大读者的关注和好评。
部级期刊
人气 19733 评论 17
省级期刊
人气 9439 评论 13
