用于控制清洗和刻蚀溶液的实时监控技术

作者：Eugene; Shalyt; Guang; Liang; Peter; B...实时监控技术多组分溶液刻蚀清洗控制二极管阵列工艺流程分析设备

摘要：现代湿法工艺流程需要对稀释程度很高的多组分溶液进行实时监控。本文将介绍NIR分析设备的功能。通过该方法可以获得超低的杂讯级别，同时从二极管阵列光谱仪上得到多元信号，这样可以实现对温度和气泡引起干扰的有效补偿，还可以选择性地决定多种组分的含量，可监测范围可宽达ppm量级到100％。

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