作者:Aaron; Hand光刻技术euv浸没式半导体技术评选专家32纳米技术论坛温哥华供应商
摘要:根据5月份在温哥华举行的受邀光刻技术论坛披露的报告,最新的国际半导体技术蓝图(ITRS)中,半导体厂商和供应商就光刻的前景和未来达成了普遍的共识。对各项最新的光刻技术的研究表明,193纳米浸没式光刻技术将成为量产45纳米节点产品的首选,而EUV(极紫外)光刻技术将在32纳米节点上大展拳脚。
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《集成电路应用》(CN:31-1325/TN)是一本有较高学术价值的大型月刊,自创刊以来,选题新奇而不失报道广度,服务大众而不失理论高度。颇受业界和广大读者的关注和好评。
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