光刻技术光源纳米技术光刻设备输出功率技术节点功率放大器高数值孔径脉冲频率光照条件
摘要：XLA400是第五代基于主控振荡功率放大器的光刻光源，是为65纳米技术而夺身打造的。在6kHz的工作脉冲频率下，输出功率是90W，并且可以进一步的增大，设备兼容各种类型的光照条件，并满足用户对线宽控制的严格要求。利用可变输出功率的优势，设备使芯片制造商在不降低产量的情况下将ArF光刻技术向下延伸到45纳米技术节点，同时减少了对某些为提高产能而使用的分辨率加强技术的依赖。灵活的设计使XLA400也支持实现45纳米技术节点的超高数值孔径浸没式光刻设备
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