超高数值孔径浸没式光刻面临的挑战：偏振效应

高数值孔径浸没式偏振效应刻纳米技术光刻胶高折射率光学镜头势在必行光刻技术

摘要：浸没式光刻要实现32纳米技术乃至进一步向下延伸，在高折射率液体，光学镜头以及光刻胶等关键技术领域需要要不断取得突破性的进展。为了得到更高的分辨率，超高数值孔径浸没式光刻技术势在必行，由此而产生的光学偏振问题会日益突出，现在光刻领域的专家已经开始着手解决这个问题。

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