ADI公司创新的制造工艺并且推出一批适合工业应用的高电压模拟IC

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摘要：ADI公司日前了一种创新的半导体制造工艺，它将高电压半导体工艺与亚微米CMOS(互补金属氧化物半导体)和互补双极型工艺相结合，从而证实了ADI公司对工业和仪表电子行业的贡献。ADI公司为iCMOS^TM(工业CMOS)工业制造工艺投入了最大的研发力量，它使诸如工企自动化和过程控制等高电压应用在性能、设计和节省成本方面达到了空前的水平。

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