作者:王文婧; 陈璞; 何凯旋; 王鹏深腔光刻曝光量曝光间隙半球陀螺
摘要:针对半球陀螺在研制流片时遇到的深腔内光刻难题,在现有条件下开展了深腔内光刻工艺实验。实验中将曝光间隙类比深腔深度,利用现有条件开展一系列实验。最终得出:在400~600μm曝光间隙内,采用现有光刻机进行深腔光刻工艺制作时,掩膜图形转移尺寸与曝光量有关,与曝光间隙没有明显关系。实验得出的工艺参数已经应用到半球陀螺项目的制作。
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