作者:周坤离子注入束流剂量均匀性
摘要:本文叙述了影响小剂量离子注入均匀性的几个主要因素,其中包括束流品质、离子束聚焦与扫描以及束流大小的选择等。同时介绍了如何控制这些因素来获取优异的注入均匀性,通过这些控制手段,均匀性可以优于5%,结果令人满意。
注:因版权方要求,不能公开全文,如需全文,请咨询杂志社
《集成电路通讯》是一本有较高学术价值的大型季刊,自创刊以来,理论联系实际,选题新奇而不失报道广度,服务大众而不失理论高度,颇受业界和广大读者的关注和好评。
部级期刊
人气 269347 评论 72
人气 116145 评论 66
省级期刊
人气 61395 评论 58
人气 38669 评论 47