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小剂量离子注入均匀性的工艺控制

作者:周坤离子注入束流剂量均匀性

摘要:本文叙述了影响小剂量离子注入均匀性的几个主要因素,其中包括束流品质、离子束聚焦与扫描以及束流大小的选择等。同时介绍了如何控制这些因素来获取优异的注入均匀性,通过这些控制手段,均匀性可以优于5%,结果令人满意。

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集成电路通讯

《集成电路通讯》是一本有较高学术价值的大型季刊,自创刊以来,理论联系实际,选题新奇而不失报道广度,服务大众而不失理论高度,颇受业界和广大读者的关注和好评。

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