作者：宋宁; 周坤离子注入损伤退火浅结掺杂隔离
摘要：本文介绍了离子注入工艺的基本特点和工艺中应注意的几个问题，对离子注入在浅结形成及化合物半导体集成电路工艺中的应用进行了描述。
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