作者：廖礼姝 郑谦 石冰 卢胜军 张睿 蒙田地塞米松腭胚突间充质细胞腭裂
摘要：目的研究细胞水平地塞米松（Dex）致腭裂畸形的生物学机制,筛选出影响腭胚突间充质（EPM）细胞生长的地塞米松最适浓度。方法腭胚突间充质细胞进行原代培养,实验组细胞分别以1×10-9、1×10-8、1×10-7和1×10-6 mol.L-1地塞米松加以干预,MTT比色法检测各组细胞的增殖率,碘化丙啶（PI）染色观察各组细胞的凋亡情况。结果在血清质量分数为10%条件下,随着Dex浓度的增加,细胞增殖率降低。第3天达到了地塞米松药物作用的最高峰。Dex浓度为1×10-6 mol.L-1组与对照组相比,各时段的P值均小于0.01。结论地塞米松在加药后第3天药物作用最显著,之后随着药物的代谢,作用减弱;浓度1×10-6 mol.L-1的地塞米松,既有一定程度的抑制EPM细胞生长的作用,又不会导致大量的细胞死亡。其可作为在细胞水平研究地塞米松致畸的生物学机制的最适浓度。
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