作者：曹鸿 褚君浩 王善力 邬云骅 张传军碲锌镉薄膜射频磁控溅射带隙
摘要：采用Cd0.96Zn0.04Te靶,利用射频磁控溅射制备碲锌镉薄膜,通过改变基片温度、溅射功率和工作气压,制得不同的碲锌镉薄膜.将制备的碲锌镉薄膜放置在高纯空气气氛中,在473 K温度下退火.利用台阶仪、分光光度计、XRD和SEM测试设备表征,结果表明,通过退火和改变沉积参数,可以制备出禁带宽度在1.45～2.02 eV之间调节的碲锌镉薄膜.
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