作者：刘一兵pecvd含氟碳化膜微观性能
摘要：以CH4和CF4的混合气体作源气体,利用等离子体增强型化学气相沉积法(PECVD)改变沉积条件,制备了一批含氟碳化膜样品.并用原子力显微镜(AFM)、X射线衍射、红外光谱、紫外一可见光等设备分析了薄膜的表面形貌和微观性能.
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