作者：王辉华; 刘文化; 石章松光电跟踪系统内模控制扰动参考输入
摘要：内模控制是一种基于对象数学模型进行控制器设计的新型控制策略，其设计思路是将对象模型与实际对象相并联，控制器逼近模型的动态逆。根据内模控制原理及光电跟踪系统参考输入及扰动输入特性，设计了一种新型位置控制器。并分析了IMC跟踪控制器的零稳态偏差及抗干扰性能。从仿真结果看，与常规PID控制相比，内模控制器参数调整简单、跟踪性能良好。特别是在针对目标突然机动的情况下，IMC控制器具有良好的稳态误差重构能力，即能迅速收敛到稳态误差。根据仿真结果数据统计，系统跟踪误差的均方根可减小到0．5mrad，表明该控制器能够提高系统的跟踪精度，为高性能光电跟踪系统提供了一种新的控制策略。
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