作者：杨仲秋磁控溅射工作气压薄膜
摘要：结合近几年的相关研究报道,归纳总结磁控溅射法制备薄膜过程中,工作气体压力变化对膜层沉积速率、膜层形貌和表面粗糙度的影响及相关规律,为磁控溅射制备Mo薄膜、ZnO光学膜层时调控膜层厚度、透光率等性能提供参考。
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